黃光室是進行IC晶片微影成像術(shù)的區(qū)域，將光阻材料利用旋鍍法被覆在晶園上，而后再放置于曝光機下進行曝光，以使紫外線光源透過光罩照射于光阻而得到感光圖像，最后再以藥劑進行顯影而得到實際圖像。 早期曝光機的光源為全光譜光源，后演進到G-LINE（436 mm）光源，目前最為廣泛使用的為I-LINE（436mm）光源，對于0.3ūm線寬以下的IC制程，則需采用深紫外線（deep UV）248mm光源，甚至X光或電子束，目前光源較采用高壓水銀（汞）弧燈，由于其特性頻譜，所以須經(jīng)過濾光片以獲得所需的I－LINE(365mm)光線。 為了避免光阻在曝光前、曝光后受到曝光機以外的光線照射而曝光，所以整個作業(yè)必須在黃光室下進行，換言之，所有照明用的光源須加以過濾，照明燈底罩及各式隔間門及窗皆應(yīng)具有過濾波長380mm紫外光的能力。但必須注意的一點，有些黃色透明板雖然具有黃光，但對于紫外光卻未完全隔絕，嚴格來說，這是不合格的產(chǎn)品。因為常被用于黃光室的5mm 黃色壓克力板，在I－LINE（365mm）附近確有不少的穿透率。