UV光催化除臭設備工作原理如下：
（1）利用特定波段（253.7nm）的紫外線對惡臭氣體的分子鏈進行破壞，將其大分子結構打碎變成小分子結構。聚乙烯、聚丙烯等大分子聚合物會被分解成小分子。
（2）利用特定波段（185nm）波段的紫外線使空氣中的氧分子產(chǎn)生游離態(tài)的氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產(chǎn)生臭氧。
（3）在催化劑（TiO２）的作用下，臭氧將打碎的惡臭氣體分子氧化成CO2和H2O等無機物，從而達到治理目的。
光催化氧化凈化設備的特點:
(1)光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體完全氧化成無毒無害的物質(zhì)，適合處理高濃度、氣量大、穩(wěn)定性強的有毒有害氣體的廢氣處理。（2）有效凈化徹底：通過光催化氧化可直接將空氣中的廢臭氣體完全氧化成


無毒無害的物質(zhì)，不留任何二次污染，
（3）綠色能源：光催化氧化利用人工紫外線燈管產(chǎn)生的真空波紫外光作為能源來活化光催化劑，驅動氧化—還原反應，而且光催化劑在反應過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效地降解有毒有害廢臭氣體


成為光催化節(jié)約能源的最大特點。
（4）氧化性強：半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物廢氣加以分解，所以對難以降解的有機物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是羥基自由基（


OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常見的等。
（5）廣譜性：光催化氧化對從烴到羧酸的種類眾多有機物都有效，即使對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要經(jīng)過一定時間的反應可達到完全凈化。
UV光催化除臭設備廣泛應用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、魚粉廠、污水處理廠、垃圾轉運站等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化，其中特別適合用噴漆廢氣的除苯除臭。
我公司生產(chǎn)的工業(yè)廢氣處理設備和工業(yè)除塵設備已經(jīng)廣泛使用到各大工廠企業(yè)，大家可以隨時去現(xiàn)場考察案例。