HN--998是新型的無電解化學鍍鎳—磷合金工藝。該工藝具有極佳的穩(wěn)定性。鍍層含磷量7±2%（wt%），最高沉積率可達27微米/小時。HN--998所提供的是色調(diào)賞心悅目的光亮鍍層，并具有優(yōu)良的防腐性能，可廣泛用于計算機配件，五金裝璜飾品的掛鍍，滾鍍。
一． 鍍層的物理特性
磷含量（wt%）              5—9
鍍層密度（g/cm3）        7.8—8.0        熔點（ ℃ ）：880—960
硬度(鍍態(tài))：                       550—720HV
熱處理（400℃ 1小時）后：    900—1000HV
二． 特點
1． 特快的沉積速率：18—27微米/小時，前六個周期平均鍍速可達19微米/小時以上。
2． 較穩(wěn)定的磷含量，鍍層具有優(yōu)良的防腐和延展性能。
3． 極佳的穩(wěn)定性，最長的使用壽命可超過10個周期。
4． 鍍液容易操作。
5． 較寬的鍍液負載范圍0.5—3.4dm2 /L.
三． 設備要求
1． 鍍槽：建議使用PP鍍槽或采用陽極保護的不銹鋼鍍槽。
2． 加熱器：表面涂有聚四氟乙烯材料的加熱器，經(jīng)過鈍化處理的不銹鋼加熱器也可以使用。加熱時應避免鍍液局部過熱。
3． 過濾：連續(xù)過濾可采用5—10微米的過濾器；間歇式過濾可使用3微米的過濾器。
4． 攪拌：最好使用機械運動的方法進行攪拌，也可采用干凈無油的低壓空氣攪拌。但過度的空氣攪拌是有害的。
四． 鍍液的配制
HN--998A：    60ml/L       HN--998 B：   100ml/L
蒸餾水或去離子水：            840ml/L
首先用蒸餾水或去離子水清洗鍍槽（不銹鋼槽須經(jīng)鈍化處理），加入約50%體積的蒸餾水或去離子水后，再加入所需數(shù)量的HN--998A和HN--998B，攪拌均勻后，調(diào)整pH值至4.6~4.8。調(diào)高pH值可采用25%的氨水或50%的碳酸鉀；調(diào)低pH值可用10%的硫酸。用蒸餾水或去離子水補充到規(guī)定的體積，將鍍液加溫到88 ℃，再次檢查pH，如已在4.6—4.8范圍內(nèi)，鍍液即可使用。
五． 操作條件
金屬鎳：              5.0—6.2g/L(最佳5.8)
pH：                 4.7—4.9
溫度：                85—92℃（最佳88℃）
鍍液負載：            0.5—3.4dm 2/L