光刻銀漿分類和工藝流程
最近，Uninwell International與乾新（上海）電子強強聯合，共同開發(fā)中國高端電子膠粘劑市場。Uninwell International是全球導電漿料產品線最齊全的生產企業(yè)，其產品性能優(yōu)異,剪切力強,流變性也很好,并且吸潮性低，適用于LED、大功率LED、LED數碼管、LCD、TR、IC、COB、PCBA、EL冷光片、顯示屏、晶振、石英諧振器、晶體管、太陽能電池、光伏電池、蜂鳴器、陶瓷電容等各種電子元件和組件的封裝以及粘結等。電子元器件、集成電路、電子組件、電路板組裝、液晶模組、觸摸屏、顯示器件、照明、通訊、汽車電子、智能卡、RFID射頻識別標簽、太陽能電池等領域。
隨著電子設備窄邊框的設計，對導通線路的線路和線距要求越來越高，目前市面是能把線細和線距做窄的工藝有“濕刻法”和“干刻法”兩種，先總結如下：
一 “濕刻法”產品和工藝流程：
BQ5050負型光刻銀膠，此產品特別適合電容觸摸屏和平板顯示器件制作。也可用于其他對線細和線距要求嚴格的線路制作。
本產品是一種負型光刻銀膠，其優(yōu)點為：潔凈度高、感光靈敏度高、粘附性好、工藝寬容度大、線條陡直、圖形整齊、體積電阻低、粘結強度大。
Uninwell BQ5050光刻銀漿操作流程：
前處理－輥涂（絲印）－前烘－曝光－顯影－漂洗－后烘（堅膜）
二 “干刻法”產品和工藝流程：
   CN2200為熱固性激光蝕刻導電銀漿；工藝流程為：涂布－熱固－激光刻蝕－清洗－烘干
   AHB9800系列為UV紫外光固化激光刻蝕導電銀漿：涂布－UV固化－激光刻蝕－清洗－烘干
   三 黃光制程工藝流程：
前處理－Mo濺鍍－Al濺鍍－Mo濺鍍－感光劑涂布－感光－干燥－曝光－光刻膠刻蝕－金屬刻蝕－刻蝕剝離－漂洗－烘干
   由此可見，光刻銀漿工藝比目前的黃光制程工序更短，效率更高，工藝成本低，阻值更低，靈敏度更好。